标准编号：GB/T 43725-2024
标准名称：直写成像式曝光设备
标准类型：推荐性
标准英文：Direct writing imaging exposure equipment
标准状态：即将实施
发布日期：2024-10-01
实施日期：2024-03-15
标准语言：中文
发布部委：
国际分类：电子学
国内标准分类号：L97
国际标准分类：31.260
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
标准类别：产品
代替标准：
起草单位：合肥芯碁微电子装备股份有限公司安徽省工业和信息化研究院四创电子股份有限公司合肥矽迈微电子科技有限公司深圳拜波赫技术有限公司 广州兴森快捷电路科技有限公司 深南电路股份有限公司 中国电子技术标准化研究院 深圳市克洛诺斯科技有限公司
起草人：何少锋 陈新 沈桂珍 朱颖 曲鲁杰 许静平 陆培良 吴怡然 李香滨 严孝年 李照辉 吴新民 邱醒亚乔书晓陈黎阳方林陈东崔良端曹可慰赵俊莎鲁男李娜
SGB/T 43725—2024目次前言1范围·……·2规范性引用文件3术语和定义，4分类与结构。5技术要求6测试方法7检验规则·…·8标识、标志、包装、运输和贮存129产品随机文件···13