标准编号：GB/T 16879-1997
标准名称：掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
标准类型：推荐性
标准英文：Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
标准状态：现行
发布日期：1998-03-01
实施日期：1997-06-20
标准语言：中文
发布部委：
国际分类：电子学
国内标准分类号：L97
国际标准分类：31.020
技术归口：>全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：>国家标准化管理委员会
标准类别：基础
代替标准：
起草单位：中国科学院微电子中心
起草人：